職位描述
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崗位職責1.負責coating、干法刻蝕、干/濕法去膠、清洗工藝的開發(fā);2.負責各個工藝制程異常分析、改善;3.負責設計工程實驗及安排執(zhí)行;4.負責減少工藝缺陷,提升制品良品率;5.負責設備的操作、日常管理和簡單的設備問題處理;6.負責制定規(guī)范文件、工藝質量文件的編寫與完善;7.對相關技術操作人員進行培訓,強化其專業(yè)技能。8.完成新工藝、新材料、新設備的評估、引進工作;9.熟悉OFFICE軟件,能夠撰寫報告;任職要求:1. 本科,化學,材料,微電子、電子科學與技術 等相關專業(yè),CET 四級更佳;2. 有1~2年半導體光刻工藝經驗或者刻蝕工藝經驗者優(yōu)先, 優(yōu)秀的應屆畢業(yè)生亦可;3. 具備良好的團隊合作與溝通能力;
職能類別:半導體工藝工程師
關鍵字:干法刻蝕刻蝕工藝化學
工作地點
地址:東莞東莞-鳳崗鎮(zhèn)
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職位發(fā)布者
HR
深圳市光舟半導體技術有限公司
- 電子技術·半導體·集成電路
- 1-10人
- 私營·民營企業(yè)
- 寶能智創(chuàng)谷B棟